Výhody PVD iontového povlaku a vakuového napařovacího povlaku

Specifický princip technologie iontového pokovování (PVD povlak) se týká především použití technologie vysokoproudého, nízkonapěťového obloukového výboje ve vakuovém prostředí a racionálního využití plynového výboje, který může podporovat rychlé odpařování cílového materiálu. a odpařování plynu a látek Oba mohou být rychle ionizovány a poté urychlovány elektrickým polem, čímž se na obrobku shromažďuje velké množství reakčních produktů a odpařených látek. Ve srovnání s vakuovým odpařovacím povlakem má PVD iontový povlak následující výhody díky svým různým charakteristikám: (1) Ion má lepší difrakční výkon a může zpracovávat různé složité pokovené obrobky; (2) Povrch obrobku a fólie má silnou spojovací sílu, takže má vyšší odolnost proti opotřebení a trvanlivost; (3) Existuje mnoho typů povlaků, které lze potahovat; (4) Film má vyšší rychlost nanášení a má vyšší efektivitu výroby; (5) Má relativně stabilní filmový výkon a jeho bezpečnost je také velmi vysoká.　　Technologie PVD je vhodnější pro tváření, lisování, protahování a jiné formy, soustružnické nástroje, vrtáky a další nástroje a přesné díly. Po aplikaci technologie povlakování na formu lze účinně zlepšit sílu proti opotřebení a tvrdost a současně snížit koeficient tření, takže lze prodloužit životnost obrobku. Normálně ve srovnání s neošetřeným obrobkem může být jeho životnost zvýšena 3-10krát. Dosud mezi běžnější povlaky patří zejména: TiCN, CiN atd. a různé technologie úpravy povlaků mají zjevné rozdíly ve svém použití a vlastnostech. Předchozí příspěvek: Jaká je posloupnost instalace kovových lisovacích nástrojů